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半导体生产用超纯水设备的三种工艺流程

2019-03-12 15:40:41

  半导体生产用超纯水设备的三种工艺流程

  电池中电解液的配备对纯水要求十分严格, 通常要求水的电导率在0.1us/cm(电阻值在10兆欧姆)以上,传统用来制备长春半导体生产用超纯水设备的工艺是常采用阴阳树脂交换设备,该工艺的缺点在于树脂在使用一段时间以后要经常再生。今天为大家介绍几种比较适合半导体生产用的超纯水工艺。

  1、采用离子交换方式,其流程如下:

  原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

  2、采用两级反渗透方式,其流程如下:

  原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

  3、采用EDI方式,其流程如下:

  原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

  随着膜分离技术的不断成熟,现在半导体生产用超纯水设备常常采用反渗透过滤工艺,或者是采用一级反渗透后面再经过离子交换混床(或电去离子EDI)工艺来制取超纯水。

  莱特莱德哈尔滨水处理设备公司一直以来都在踏踏实实做好每一项工作,无论在产品性能价格比还是技术服务上,都得到了用户的肯定和认可。我们没有豪华的口号和豪言壮语,数以万计尊敬的客户见证着我们曾经和现在仍在不断前行的努力。哈尔滨水处理设备公司利用了所有可以利用的资源,为客户提供定制化行业用水解决方案。我们将为您提供服务。

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