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大庆电子工业用水处理设备

2011-10-27

大庆去离子水设备,大庆电池超纯水设备,大庆电子超纯水设备
电子工业用水处理设备

电子工业超纯水制取设备
电子超纯水工艺简介
电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中,往往需要使用极其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话,会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。在光伏行业电子管生产中,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,如其配制纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液,如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致报废、次品。在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。因此水的质量相当重要。采用反渗透加EDI的脱盐工艺,可以达到超纯水标准。
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大庆去离子水设备,大庆电池超纯水设备,大庆电子超纯水设备
应用领域

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品;
2、超纯材料和超纯化学试剂;
3、实验室和中试车间;
4、汽车、家电表面抛光处理;
5、光电子产品;
6、微电子产品、显象管制造业;
7、蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池;
8、其他高科技精微产品;

工艺流程
方案1 预处理系统→复床系统→混床系统→后处理系统→用水点
方案2 预处理系统→ RO 系统→混床系统→后处理系统→用水点
方案3 预处理系统→ RO系统→EDI系统→后处理系统→用水点
出水标准符合美国ASTM标准 符合中国电子部超纯水水质标准 (18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)
备 注:具体的设备处理量、出水标准、设备材质、尺寸及电器控制等,我公司将会提供给您详细的方案说明。

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